В России начали разработку отечественного литографа для производства микросхем

 Фотолитограф (Степпер) - важнейшее оборудование для производства микросхем. На установке литографии проводится важнейший этап проекционной фотолитографии — засветка фоторезиста через маску. В процессе работы степпера рисунок с маски многократно переводится в рисунок на различных частях полупроводниковой пластины.


Сегодня в мире есть три производителя литографов - лидер голландская ASML, и два японских производителя Canon и Nikon. Причем по самым современным нормам установки делает только ASML. Голландцы занимают более 84% рынка литографов.


Но в Россию такое оборудование сегодня продавать запрещено. Когда-то мы успели "отхватить" две относительно современные установки в составе линий - одна работает на заводе "Микрон", другая пока заморожена на заводе "Ангстерм-Т". Обе установки для топологических норм 130-65 нм.


О том чтобы нам продали установки 28 нм и ниже мы даже мечтать не можем. С другой стороны, сегодня по таким нормам производят процессоры и память, а основная часть микроэлектроники, в том числе дефицитной автомобильной, производится по нормам 130-65 нм, и даже по более "толстым". В целом таких норм достаточно для всего, если не думать о производстве смартфонов и ультрабуков. Любые задачи ВПК, космоса, индустриального уровня, на таком оборудовании можно решить даже с большим запасом.


Ну, для примера, по нормам 65 нм был выпущен процессор PlayStation 3. То есть вполне себе идут красочные 3D игры, а уж для управления каким-нибудь "Цирконом" или "Бореем" этого процессора точно хватит.


Так вот, оказывается в России по заданию Минпромторга идет разработка своих собственных установок фотолитографии уровня 350 нм, и 130-65 нм.


В Зеленоградском нанотехнологическом центре (ЗНТЦ) началась разработка оборудования для фотолитографии. Два конкурса Минпромторга на создание установок для печати микросхем на кремниевых пластинах прошли осенью 2021 года: один — на разработку фотолитографа с уровнем топологии до 350 нм, второй — до 130 нм. В конце 2026 года планируется запуск серийного производства полностью отечественных фотолитографических установок - сообщает Зеленоград.ру



Здание ЗНТЦ, где идет разработка степпера. Я был на открытии этого центра.

И тут обращает на себя то, насколько грамотно поставили задачу. Гнаться за ASML с их супертонкими нормами 7-5 нм и ниже - глупость. Никто в мире не может. Поэтому взяли такие нормы, которые мы сможем потянуть. К тому же, продукты по этим нормам будут оставаться актуальными еще очень долго, особенно для стратегически важных областей.



В ЗНТЦ есть степпер компании ASML, удалось его снять через окошко. Туда в помещение никого не пускают, там повышенный класс чистоты

Очень грамотно еще и то, что разработка будет идти в два этапа: сначала 350 нм, а потом 130 нм. Ну а потом можно и о более современных нормах подумать, например, 40-28 нм, правда там нужны будут уже совершенно другие технологии.



ЗНТЦ. Фото автора.

Кстати, литографическое оборудование в России никогда не производилось. В СССР его делали в Белоруссии на заводе «Планар». Советские машины «Планара» до сих пор работают, например, на зеленоградском «Ангстреме». С компанией «Планар» ЗНТЦ сотрудничает, все их компетенции и опыт будут задействованы при выполнении разработки по заданию Минпромторга.


Источник.
















Обсудить:

0 comments:

Всегда рады услышать ваше мнение!